山東力冠微電子裝備

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地址：濟南市槐蔭區(qū)濟南寬禁帶半導體產(chǎn)業(yè)園

電話：15562450816

郵箱：liguan1218@163.com

MPCVD設備

? 微波等離子化學氣相沉積技術(MPCVD) , 通過等離子增加前驅體的反應速率,降低反應溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結晶形態(tài)好的高質量的金剛石單晶和多晶薄膜

氮化鎵（GaN）HVPE單晶生長設備 臥式

? 用于氮化鎵(GaN)單晶生長 ? 用于氧化鎵(Ga?O?)、氮化鋁(AIN)、磷化銦(InP)、砷化鎵(GaAs)外延生長

氮化鎵（GaN）HVPE單晶生長設備 立式

? 用于氮化鎵(GaN)單晶生長 ? 用于氧化鎵(Ga?O?)、氮化鋁(AIN)、磷化銦(InP)、砷化鎵(GaAs)外延生長

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